硅早已是大多数电子应用中的关键半导体材料，但与SiC相比，则显得效率低下。碳化硅，又名金刚砂，化学式为SiC，是用石英砂、石油焦（或煤焦）、木屑（生产绿色碳化硅时需要加食盐）等原料通过电阻炉高温冶炼而成、是C元素和Si元素形成的化合物。

碳化硅涂层石墨盘是通过物理或化学气相沉积、喷涂等方法在石墨表面制备一层碳化硅保护层。所制备的碳化硅保护层能牢固地附着在石墨基体上，使石墨基体表面致密无空隙，赋予石墨基体抗氧化、耐酸碱、耐侵蚀等特别性能，耐腐蚀性能。碳化硅涂层石墨盘是目前单晶硅外延生长和氮化镓（GaN）外延生长的基底之一，是外延炉碳化硅涂层的主要部件。

碳化硅六大用途

用途：

1、在电气工业中，碳化硅可用做避雷器阀体、硅碳电热元件、远红外线发生器等。

2、在航天工业中，用碳化硅制造的燃气滤片、燃烧室喷嘴已用于火箭技能中。

3、低档次的碳化硅可用做炼钢脱氧剂及铸铁添加剂。

4、在炭素工业中，碳化硅可用来出产炼铁高炉用砖，如石墨碳化硅、氮化硅结合的碳化硅砖等。

5、在石墨电极出产中，碳化硅还用做耐氧化涂层电极的涂层耐火烧结料的配猜中，以添加涂层对温度急剧改变的承受才能。

6、在特种炭素资料——生物炭的制造中，常以丙烷和三氯甲基硅烷为气体质料，经高温热解反响，在石墨基体上堆积生成含硅热解炭涂层，以添加制品的硬度、强度和耐磨性。

超声波喷涂制备碳化硅涂层的优点，采用YMUS超声喷涂技术制备碳化硅晶体膜，使晶体沉积均匀，提高了生长膜的一致性。超声波喷涂碳化硅种子晶体生长法在碳化硅器件的制备和研究中具有重要意义，可用于制备碳化硅薄膜、纳米颗粒等，在新能源、光电子、电力电子、传感器、生物医药等领域有着广泛的应用。

YMUS-ZS超声波喷涂设备特性：

◆自动化超声波喷涂设备，采用超声波喷头技术，可提供均匀高效的薄膜喷涂；

◆涂层厚度控制精度高：可制备二十纳米到数十微米的涂层，精确控制涂层厚度；

◆喷涂均匀度：95%；

◆溶液转换率：≥95%，4倍于传统二流体喷涂；

◆搭载多个喷头并联工作；（可扩展）

◆最大喷涂面积：*mm；（可扩展）

◆高精度恒流供液技术，可实现不间断稳恒供液；

◆激光对位:协助用户方便快捷地定位喷头位置；

◆进口高精度精密减压阀及液体阀门，实现高速稳定的气液配合；

◆喷嘴、液路管道自清洗系统，内置废液回收系统、废气排气系统；

◆在线分散供液系统，上百种工艺配方储存；

◆微米级微孔真空吸加热，适合电池隔膜等柔性基材。