实验室真空高温蒸镀仪

实验室真空高温蒸镀仪

KT-ZCVD，石英＋不锈钢腔体，触摸屏控制，工艺储存功能，自动电控挡板保护样品

在厚度为2nm(20埃)或更厚时膜是连续的。通常的沉积形式是加热碳或石墨棒。棒具有特定的形状以达到最大电流密度，使得它具有足够的温度来引起蒸发。基于这点，出现了细小的、亮的、热的碳颗粒。此系统需要用扩散泵或涡轮分子泵达到1x10-4mbar或更高的真空度。涡轮分子泵在KX中作为标准配置，此泵作为机械真空泵的后级泵，真空为全自动控制，真空度优于1x10-5mbar。可进行预热及除气控制，同时用瞬时蒸发开关使脉冲蒸发在用户控制下进行。标准的旋转样品台可进行倾斜调节，非常容易适应各种样品座