石墨

钟渊化学聚酰亚胺基超薄石墨膜

发布时间:2022/5/13 18:58:39   
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关键词:石墨膜;结晶性;纳米级厚度;均匀性;大面积;自支撑性;聚酰亚胺基;边缘辅助法;离子减薄高质量石墨是一种极其独特的导体材料,其基面方向的导热率是铜的4~5倍,载流子数和迁移率约为铜的1/和倍。传统的化学气相沉积法(CVD)和碳化硅法(SiC)可生产结晶度高的多层结构石墨膜(MLG)。然而,该类“自下而上”的制备方法在工业应用时,会面临石墨烯层数的进一步增加导致其结晶度和物理性能显著降低的重要挑战。同时,该类制备方法不能在无衬底的情况下生产单个MLG膜,需要在器件制造中的额外将其从衬底转移到器件。因此,利用已有方法难以生产出器件所需厚度和足够结晶度的MLG膜。近期,研究人员基于一种新开发的聚酰亚胺(PI)边缘支撑热处理方法,制备了高质量、大面积、50~nm均匀厚度的自支撑石墨薄型膜(GTFs)。同时,基于50nm厚的石墨膜,进一步通过反应离子蚀刻减薄获得了厚度为10~20nm的结晶GTF膜。FabricationprocessofthePIthinfilm.a.Alkali-freeglassplate.b.Formationof10nmthickaluminumlayerusingCVD.c.Polyamicacidfilmformationthroughspincoating.d.PIfilmformationthroughthermalimidizationat℃.e.Formationof~10mmthickPMMAlayerbyspincoating.f.Removalofthealuminumlayerbyetchingwithhydrochloricacidandpeelingfromtheglassplate.g.Turn-overandrinsingwithpurewater.研究人员首先采用二酐PMDA与二胺ODA、PDA以摩尔比1:0.5:0.5比例进行聚合,制备了厚度约为~nm的均匀PI薄膜,并在其表面旋涂制备了约10μm厚度的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)膜层。之后,分别进行碳化(℃)和石墨化(℃)。

GTFfabricationusingtheESmethod.a.TwoguardframesofthickPIareattachedtobothsidesofthePI/PMMA

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